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光學(xué)形貌儀除了用于測(cè)量表面形貌或測(cè)量表面輪廓外，表面形貌儀具有測(cè)量晶圓翹曲度的功能，非常適合晶圓，太陽(yáng)能電池和玻璃面板的翹曲度測(cè)量，應(yīng)變測(cè)量以及表面形貌測(cè)量。光學(xué)形貌儀的使用特點(diǎn)說明：1、光學(xué)形貌儀測(cè)量材料能夠使材料不被損壞，具有非破壞性。能夠同時(shí)測(cè)量多種材料，不僅方便快捷，還能保證測(cè)量的準(zhǔn)確度，大大節(jié)省了工作人員的時(shí)間，具有很高的效率性和便利性。2、測(cè)量范圍廣，應(yīng)用性強(qiáng)。不管是各種金屬、塑料、玻璃、紙、木頭，還是皮膚、牙齒、頭發(fā)以及各種材料，形貌儀都可以測(cè)量。3、采用白光共...

橢圓偏振儀是一種用于探測(cè)薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備。由于并不與樣品接觸，對(duì)樣品沒有破壞且不需要真空，使得橢偏儀成為一種具吸引力的測(cè)量設(shè)備?；驹恚簷E圓偏光法涉及橢圓偏振光在材料表面的反射。為表征反射光的特性，可分成兩個(gè)分量：P和S偏振態(tài)，P分量是指平行于入射面的線性偏振光，S分量是指垂直于入射面的線性偏振光。菲涅耳反射系數(shù)r描述了在一個(gè)界面入射光線的反射。P和S偏振態(tài)分量各自的菲涅耳反射系數(shù)r是各自的反射波振幅與入射波振幅的比值。大多情況下會(huì)有多個(gè)界面，...

納米壓印技術(shù)是上世紀(jì)90年代StephenYChou，針對(duì)傳統(tǒng)光刻受波長(zhǎng)限制提出的類似于模板刻印的一種技術(shù)。納米壓印機(jī)是一種非常靈活的壓印設(shè)備。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置，體積小，容易存放，大可處理210mm圓形的任何尺寸印章和基材。該系統(tǒng)是手動(dòng)裝卸印章和模板，但所有處理器都是全自動(dòng)的，軟件用戶可以*控制壓印過程。它的原理是：將具有納米結(jié)構(gòu)的模板通過一定壓力，壓入加熱的熔融的高分子薄膜內(nèi)，待高分子材料冷卻，納米結(jié)...

紅外激光測(cè)厚儀集激光光源，光電檢測(cè)和計(jì)算機(jī)工業(yè)控制技術(shù)三者于一身，可廣泛用于生產(chǎn)線上對(duì)各種材料的厚度、寬度、輪廓的實(shí)時(shí)測(cè)量，是我國(guó)工業(yè)生產(chǎn)線產(chǎn)品質(zhì)量控制的重要設(shè)備。作為一種非接觸式厚度測(cè)量?jī)x器，一直受到人們的熱捧。因?yàn)樗臏y(cè)量非接觸式，讀數(shù)精準(zhǔn)，測(cè)量便捷，特別在物體定位和厚度測(cè)量方面運(yùn)用范圍最為廣泛。但普通的在線測(cè)厚儀有不足之處，就是在測(cè)量高溫物體時(shí)，由于高溫物體表面熱輻射較大，特別是在超高溫物體，比如鑄坯表面1000度以上，經(jīng)常出現(xiàn)讀數(shù)不準(zhǔn)或反應(yīng)遲緩問題。而高溫型在線測(cè)厚儀...

光學(xué)膜厚儀是一種非接觸式測(cè)量?jī)x器，一般會(huì)運(yùn)用在生產(chǎn)廠商大量生產(chǎn)產(chǎn)品的過程，由于誤差經(jīng)常會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)品全部報(bào)廢，這時(shí)候就需要運(yùn)用光學(xué)膜厚儀來介入到生產(chǎn)環(huán)境，避免這種情況的發(fā)生。典型應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體制造業(yè)，光刻膠、氧化物、硅或其他半導(dǎo)體膜層的厚度測(cè)量；生物醫(yī)學(xué)原件：聚合物/聚對(duì)二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入藥物涂層；微電子：光刻膠；硅膜；氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡；液晶顯示器：盒厚；聚酰亞胺；導(dǎo)電透明膜。儀器的使用優(yōu)點(diǎn)：1、測(cè)量數(shù)據(jù)多樣：可以測(cè)得物體的膜厚度和n，k數(shù)據(jù)，這是其它類型的...