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接觸式光刻機(jī)是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、能源科學(xué)技術(shù)、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器。主要構(gòu)成：主要由對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統(tǒng)、LED曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級(jí)防震工作臺(tái)和附件箱等組成。接觸式光刻機(jī)的使用原理：其實(shí)在我國(guó)對(duì)于接觸式光刻機(jī)，曝光時(shí)掩模壓在光刻膠的襯底晶片上，其主要優(yōu)點(diǎn)是可以使用價(jià)格較低的設(shè)備制造出較小的特征尺寸。我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經(jīng)達(dá)到了小于0.1gm的特征尺寸，常用的光源分辨率...

硬化涂層膜厚儀是一款快速、準(zhǔn)確測(cè)量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案，要求的光斑尺寸小到幾個(gè)微米，如微圖案表面，粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺(tái)計(jì)算機(jī)控制的XY工作臺(tái)，使其快速、方便和準(zhǔn)確地描繪樣品的厚度和光學(xué)特性圖。工作原理：本產(chǎn)品采用電磁感應(yīng)法測(cè)量涂層的厚度。位于部件表面的探頭產(chǎn)生一個(gè)閉合的磁回路，隨著探頭與鐵磁性材料間的距離的改變，該磁回路將不同程度的改變，引起磁阻及探頭線圈電感的變化。利用這一原理可以精確地測(cè)量探頭與鐵磁性材料間的距離，即涂層厚度。硬化涂層膜厚儀的符合...

去膠工藝是微加工過(guò)程中一個(gè)重要的過(guò)程，在電子束曝光，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對(duì)光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對(duì)樣片是否有損傷等問(wèn)題，將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。等離子去膠性能出色的組件和軟件，可對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。它的工藝監(jiān)測(cè)和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)嚴(yán)格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。產(chǎn)品具有去膠快速*；對(duì)樣片無(wú)損傷；操作簡(jiǎn)單安全；設(shè)計(jì)緊湊美觀；產(chǎn)品性價(jià)比高等...

紅外激光測(cè)厚儀是用來(lái)測(cè)量材料及物體厚度的儀表，它常用來(lái)連續(xù)或抽樣測(cè)量鋼板、鋼帶、薄膜、紙張、金屬箔片等材料等產(chǎn)品的厚度。目前國(guó)內(nèi)廠家普遍采用人工測(cè)量和控制的方法來(lái)管控板材的厚度，這存在著測(cè)量精度差的、成材率低等弊端，因此采用專業(yè)的測(cè)厚儀來(lái)能有效地改善測(cè)控環(huán)境，提高生產(chǎn)效率、提高成材率和產(chǎn)品質(zhì)量。目前本產(chǎn)品主要應(yīng)用于鋰電池正、負(fù)極涂布、鋰電池正、負(fù)極輥壓的厚度測(cè)量，以實(shí)際情況為例，使用時(shí)，可放置激光測(cè)厚儀于銀壓后和收卷前，在具有極片張力波動(dòng)和銀壓機(jī)振動(dòng)的復(fù)雜工況下測(cè)量設(shè)備使用浮...

電容式位移傳感器具有一般非接觸式儀器所共有的無(wú)磨擦、無(wú)損磨和無(wú)惰性特點(diǎn)外，還具有信噪比大，靈敏度高，零漂小，頻響寬，非線性小，精度穩(wěn)定性好，抗電磁干擾能力強(qiáng)和使用操作方便等優(yōu)點(diǎn)。在國(guó)內(nèi)研究所，高等院校、工廠和軍工部門得到廣泛應(yīng)用，成為科研、教學(xué)和生產(chǎn)中一種*的測(cè)試儀器。應(yīng)用范圍：主要用于解決下述各種測(cè)量問(wèn)題：壓電微位移、振動(dòng)臺(tái)，電子顯微鏡微調(diào)，天文望遠(yuǎn)鏡鏡片微調(diào)，精密微位移測(cè)量等。性能：電容式位移傳感器的電容器極板多為金屬材料，極板間襯物多為無(wú)機(jī)材料，如空氣、玻璃、陶瓷、石英...