納米壓印機(jī)具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，支持尺寸從碎片到最大150毫米。
該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。納米壓印機(jī)提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間僅為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到專(zhuān)家級(jí)別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。
對(duì)于壓印工藝，本產(chǎn)品允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機(jī)制。本產(chǎn)品專(zhuān)有的卡盤(pán)設(shè)計(jì)可提供均勻的接觸力，以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤(pán)設(shè)計(jì)既支持軟印章也支持硬印章。
納米壓印機(jī)的使用特征：
1、頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力；
2、高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)；
3、自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制；
4、電動(dòng)和配方控制的曝光間隙；
5、支持最新的UV-LED技術(shù)；
6、最小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求；
7、分步流程指導(dǎo)；
8、遠(yuǎn)程技術(shù)支持；
9、多用戶概念；
10、敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換；
11、臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版。
